Selective SiO2-to-Si3N4 etching in inductively coupled fluorocarbon plasmas: Angular dependence of SiO2 and Si3N4 etching rates

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)

ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)

Nyckelord

Electronics

Elektronik

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)

art (ämneskategori)