WFRF:(Kubart Tomas 1977 )
Sökning: WFRF:(Kubart Tomas 1977 ) > Metal Filling by Hi...
- 24 av 41
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
- Jablonka, Lukas,Dipl.-NanoSc.Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik (författare)
Metal Filling by High Power Impulse Magnetron Sputtering
- Artikel/kapitelEngelska2019
Förlag, utgivningsår, omfång ...
- 2019-07-08
- IOP Publishing,2019
- printrdacarrier
Nummerbeteckningar
- LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-384881
- https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-384881URI
- https://doi.org/10.1088/1361-6463/ab28e2DOI
Kompletterande språkuppgifter
- Språk:engelska
- Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
- SwePubSwePub
Klassifikation
Anmärkningar
- High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is an emerging thin film deposition technology that provides a highly ionized flux of sputtered species. This makes HiPIMS attractive for metal filling of nanosized holes for highly scaled semiconductor devices. In this work, HiPIMS filling with Cu and Co is investigated. We show that the quality of the hole filling is determined mainly by the fraction of ions in the deposited flux and their energy. The discharge waveforms alone are insufficient to determine the ionization of the metal flux. The experimental results are in a good agreement with Monte-Carlo simulations using the measured flux characteristics. Based on the simulations, strategies to improve the filling are discussed.
Ämnesord och genrebeteckningar
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER Elektroteknik och elektronik Annan elektroteknik och elektronik hsv//swe
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering hsv//eng
- metallization
- HiPIMS
- ionized sputtering
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
- Moskovkin, PavelLaboratoire d'Analyse par Réactions Nucléaires (LARN), Namur Institute of Structured Matter (NISM), University of Namur (UNamur), Namur, Belgium (författare)
- Zhang, Zhen,1979-Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)zhezh386 (författare)
- Zhang, Shi-LiUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)shizh725 (författare)
- Lucas, StéphaneLaboratoire d'Analyse par Réactions Nucléaires (LARN), Namur Institute of Structured Matter (NISM), University of Namur (UNamur), Namur, Belgium (författare)
- Kubart, Tomas,1977-Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)tomku340 (författare)
- Uppsala universitetFasta tillståndets elektronik (creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
- Ingår i:Journal of Physics D: IOP Publishing52:360022-37271361-6463
Internetlänk
- 24 av 41
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Jablonka, Lukas, ...
- Moskovkin, Pavel
- Zhang, Zhen, 197 ...
- Zhang, Shi-Li
- Lucas, Stéphane
- Kubart, Tomas, 1 ...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Elektroteknik oc ...
- och Annan elektrotek ...
- Artiklar i publikationen
- Journal of Physi ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
