Electrochromism of nitrogen-doped tungsten oxide thin films

Atak, GamzeUppsala universitet,Fasta tillståndets fysik,Hacettepe University (författare)

Tungsten-oxide-based thin films were prepared by reactive DC magnetron sputtering in the presence ofoxygen and nitrogen. Nitrogen contents up to 12 at.% were documented by Rutherford backscattering spectrometry and time-of-flight elastic recoil detection analysis. Optical and electrochemical measurements showed that films with up to 4 at.% of nitrogen were as transparent as undoped tungsten oxide films and displayed enhanced electrochromic properties manifested in an increase in the coloration efficiency by as much as 20%.

Bayrak Pehlivan, IlknurUppsala universitet,Fasta tillståndets fysik(Swepub:uu)ilkpe662 (författare)
Montero, José,1983-Uppsala universitet,Fasta tillståndets fysik(Swepub:uu)josmo456 (författare)
Primetzhofer, DanielUppsala universitet,Tillämpad kärnfysik(Swepub:uu)danpr521 (författare)
Granqvist, Claes G.,1946-Uppsala universitet,Fasta tillståndets fysik(Swepub:uu)cgr25299 (författare)
Niklasson, Gunnar A.,1953-Uppsala universitet,Fasta tillståndets fysik(Swepub:uu)gni26208 (författare)
Uppsala universitetFasta tillståndets fysik (creator_code:org_t)

Av författaren/redakt...: Atak, Gamze; Bayrak Pehlivan, ...; Montero, José, 1 ...; Primetzhofer, Da ...; Granqvist, Claes ...; Niklasson, Gunna ...

Om ämnet

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.