Sökning: WFRF:(Hultman Per Professor) >
Microstructure and ...
Microstructure and materials properties of understoichiometric TiBx thin films grown by HiPIMS
-
- Thörnberg, Jimmy (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Palisaitis, Justinas, 1983- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Hellgren, Niklas (författare)
- Messiah Univ, Dept Comp Math & Phys, Mechanicsburg, PA 17055 USA.,Department of Computing, Mathematics, and Physics, Messiah University, Mechanicsburg, PA, USA
-
visa fler...
-
- Klimashin, Fedor F. (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Ghafoor, Naureen, 1975- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Zhirkov, Igor, 1980- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Azina, Clio, 1991- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Battaglia, Jean-Luc (författare)
- Univ Bordeaux, I2M, CNRS, UMR 5295, F-33400 Talence, France.,CNRS, University of Bordeaux, Talence, France
-
- Kusiak, Andrzej (författare)
- Univ Bordeaux, I2M, CNRS, UMR 5295, F-33400 Talence, France.,CNRS, University of Bordeaux, Talence, France
-
- Sortica, Mauricio A. (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för fysik och astronomi,Department of Physics and Astronomy, Uppsala University, Uppsala, Sweden
-
- Greene, Joseph E, 1944- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten,Frederick Seitz Materials Research Laboratory and Department of Material Science, University of Illinois, Urbana, IL, USA; Materials Science and Engineering Department, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan
-
- Hultman, Lars, Professor, 1960- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Petrov, Ivan, 1949- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten,Frederick Seitz Materials Research Laboratory and Department of Material Science, University of Illinois, Urbana, IL, USA; Materials Science and Engineering Department, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan
-
- Persson, Per O.Å. 1971- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Rosén, Johanna, 1975- (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- ELSEVIER SCIENCE SA, 2020
- 2020
- Engelska.
-
Ingår i: Surface & Coatings Technology. - : ELSEVIER SCIENCE SA. - 0257-8972 .- 1879-3347. ; 404
- Relaterad länk:
-
https://doi.org/10.1...
-
visa fler...
-
https://uu.diva-port... (primary) (Raw object)
-
https://doi.org/10.1...
-
https://liu.diva-por... (primary) (Raw object)
-
https://urn.kb.se/re...
-
https://doi.org/10.1...
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- TiBx thin films with a B content of 1.43 <= x <= 2.70 were synthesized using high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) and direct-current magnetron sputtering (DCMS). HiPIMS allows compositions ranging from understoichiometric to overstoichiometric dense TiBx thin films with a B/Ti ratio between 1.43 and 2.06, while DCMS yields overstoichiometric TiBx films with a B/Ti ratio ranging from 2.20 to 2.70. Excess B in overstoichiometric TiBx thin films from DCMS results in a hardness up to 37.7 +/- 0.8 GPa, attributed to the formation of an amorphous B-rich tissue phase interlacing stoichiometric TiB2 columnar structures. We furthermore show that understoichiometric TiB1.43 thin films synthesized by HiPIMS, where the deficiency of B is found to be accommodated by Ti-rich planar defects, exhibit a superior hardness of 43.9 +/- 0.9 GPa. The apparent fracture toughness and thermal conductivity of understoichiometric TiB1.43 HiPIMS films are 4.2 +/- 0.1 MPa root m and 2.46 +/- 0.22 W/(m.K), respectively, as compared to corresponding values for overstoichiometric TiB2.70 DCMS film samples of 3.1 +/- 0.1 MPa root m and 4.52 +/- 0.45 W/(mK). This work increases the fundamental understanding of understoichiometric TiBx thin films and their materials properties, and shows that understoichiometric films have properties matching or going beyond those with excess B.
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
- NATURVETENSKAP -- Kemi -- Materialkemi (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Chemical Sciences -- Materials Chemistry (hsv//eng)
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Materialteknik -- Annan materialteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Materials Engineering -- Other Materials Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- Borides
- Stoichiometry
- Titanium
- Mechanical properties
- Microstructure
- HiPIMS
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Thörnberg, Jimmy
-
Palisaitis, Just ...
-
Hellgren, Niklas
-
Klimashin, Fedor ...
-
Ghafoor, Naureen ...
-
Zhirkov, Igor, 1 ...
-
visa fler...
-
Azina, Clio, 199 ...
-
Battaglia, Jean- ...
-
Kusiak, Andrzej
-
Sortica, Maurici ...
-
Greene, Joseph E ...
-
Hultman, Lars, P ...
-
Petrov, Ivan, 19 ...
-
Persson, Per O.Å ...
-
Rosén, Johanna, ...
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
-
NATURVETENSKAP
-
och Fysik
-
och Den kondenserade ...
-
- NATURVETENSKAP
-
NATURVETENSKAP
-
och Kemi
-
och Materialkemi
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Materialteknik
-
och Annan materialte ...
- Artiklar i publikationen
-
Surface & Coatin ...
- Av lärosätet
-
Uppsala universitet
-
Linköpings universitet