ALD metal-gate/high-k gate stack for Si and Si0.7Ge0.3 surface-channel pMOSFETs

Wu, DUppsala universitet,Institutionen för läkemedelskemi,Elektronik (författare)

Persson, S (författare)
Lindgren, A-C (författare)
Sjöblom, GustafUppsala universitet,Institutionen för teknikvetenskaper,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)gusjo205 (författare)
Hellström, P-E (författare)
Olsson, JörgenUppsala universitet,Institutionen för teknikvetenskaper,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)jorgolss (författare)
Zhang, S-L (författare)
Östling, M (författare)
Vainonen-Ahlgren, E (författare)
Tois, E (författare)
Li, W-M (författare)
Tuominen, M (författare)
Uppsala universitetInstitutionen för läkemedelskemi (creator_code:org_t)

Av författaren/redakt...: Wu, D; Persson, S; Lindgren, A-C; Sjöblom, Gustaf; Hellström, P-E; Olsson, Jörgen; visa fler...; Zhang, S-L; Östling, M; Vainonen-Ahlgren ...; Tois, E; Li, W-M; Tuominen, M; visa färre...

Om ämnet

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER: TEKNIK OCH TEKNO ...; och Elektroteknik oc ...; och Annan elektrotek ...

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.