L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101 > Effect of substrate...
- 22 av 243
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Effect of substrate material and bias on properties of TiN films deposited in the hybrid plasma reactor
-
- Bárdoš, Ladislav (författare)
- Uppsala universitet,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik
-
- Baránková, Hana (författare)
- Uppsala universitet,Elektronik,Fasta tillståndets elektronik
-
- Gustavsson, L-E. (författare)
- Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Elektronik
- (creator_code:org_t)
- 2006
- 2006
- Engelska.
- Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 24:4, s. 1655-1659
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Ämnesord
Stäng
Nyckelord
- TECHNOLOGY
- TEKNIKVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 22 av 243
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Bárdoš, Ladislav
- Baránková, Hana
- Gustavsson, L-E.
- Artiklar i publikationen
- Journal of Vacuu ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
