Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-507920" >
Corundum-structured...
-
Du, HaoLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten,Guizhou Univ, Peoples R China; Guizhou Univ, Peoples R China
(författare)
Corundum-structured AlCrNbTi oxide film grown using high-energy early-arriving ion irradiation in high-power impulse magnetron sputtering
- Artikel/kapitelEngelska2023
Förlag, utgivningsår, omfång ...
-
Elsevier,2023
-
electronicrdacarrier
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-507920
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-507920URI
-
https://doi.org/10.1016/j.scriptamat.2023.115578DOI
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-196878URI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
-
Ämneskategori:art swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
Funding Agencies|VINNOVA Competence Centre FunMat-II [2016-05156]; Swedish Government Strategic Research Area in Materials Science on Functional Materials at Link oping University [2009 00971]; Knut and Alice Wallenberg Foundation through the Wallenberg Academy Fellows program [KAW-2020.0196]; Swedish Research Council [VR 2018-04139]; Eurostars program; National Natural Science Foundation of China [51805102, 2019-00191]; Science and Technology Foundation of Guizhou Province; Swedish Research Council VR-RFI [E!114277]; Swedish Foundation for Strategic Research [[2020] 1Y228]; [52165021]; [RIF14- 0053]
-
Multicomponent or high-entropy oxide films are of interest due to their remarkable structure and properties. Here, energetic ion irradiation is utilized for controlling the phase formation and structure of AlCrNbTi oxide at growth temperature of 500 degrees C. The ion acceleration is achieved by using a high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge, accompanied by a 10 & mu;s-long synchronized substrate bias (Usync), to minimize the surface charging effect and accelerate early-arriving ions, mainly Al+, O+, Ar2+, and Al2+. By increasing the magnitude of Usync from-100 V to-500 V, the film structure changes from amorphous to single-phase corundum, followed by the formation of high-number-density stacking faults (or nanotwins) at Usync =-500 V. This approach paves the way to tailor the high-temperature-phase and defect formation of oxide films at low growth temperature, with prospects for use in protective-coating and dielectric applications.
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Shu, RuiLinköpings universitet,Laboratoriet för organisk elektronik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)ruish16
(författare)
-
Boyd, RobertLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)robbo87
(författare)
-
Le Febvrier, ArnaudLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)arnle40
(författare)
-
Sortica, Mauricio A.Uppsala universitet,Tandemlaboratoriet,Uppsala Univ, Sweden(Swepub:uu)mauso471
(författare)
-
Primetzhofer, DanielUppsala universitet,Tillämpad kärnfysik,Tandemlaboratoriet,Uppsala Univ, Sweden; Uppsala Univ, Sweden(Swepub:uu)danpr521
(författare)
-
Helmersson, UlfLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)ulfhe30
(författare)
-
Eklund, PerLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)perek02
(författare)
-
Lundin, DanielLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)danlu03
(författare)
-
Linköpings universitetPlasma och ytbeläggningsfysik
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Scripta Materialia: Elsevier2341359-64621872-8456
Internetlänk
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas