WFRF:(HJORVARSSON B)
Sökning: WFRF:(HJORVARSSON B) > Low temperature tra...
- 26 av 41
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Low temperature transport of Al into and through copper starting with Cu/Al/SiO2 bilayers
-
- Lanford, WA (författare)
- Uppsala universitet
-
- Bedell, S (författare)
- Uppsala universitet
-
- Isberg, P (författare)
- Uppsala universitet
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- AMER INST PHYSICS, 1999
- 1999
- Engelska.
- Ingår i: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - : AMER INST PHYSICS. - 0021-8979. ; 85:3, s. 1487-1495
- Tidskriftsartikel (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- The transport of Al into Cu is studied by annealing Cu/Al/SiO2 bilayers. In order to minimize the effects of contaminants, samples were prepared and annealed in all-metal ultrahigh vacuum systems. In situ resistivity was used to continuously monitor the t
Nyckelord
- FILMS; METALLIZATION
Publikations- och innehållstyp
- vet (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- JOURNAL OF APPLIED PHYSICS (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 26 av 41
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Lanford, WA
- Bedell, S
- Isberg, P
- Hjorvarsson, B
- Lakshmanan, SK
- Gill, WN
- Artiklar i publikationen
- JOURNAL OF APPLI ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
