WFRF:(Carlsson JO)
Sökning: WFRF:(Carlsson JO) > CHEMICAL-VAPOR-DEPO...
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION OF TIO AND TI2O3 FROM TICL4/H-2/CO2 GAS-MIXTURES
-
- FREDRIKSSON, E (författare)
- Uppsala universitet
-
- CARLSSON, JO (författare)
- Uppsala universitet
- (creator_code:org_t)
- ELSEVIER SCIENCE SA LAUSANNE, 1995
- Engelska 160-169 s.
- Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. - : ELSEVIER SCIENCE SA LAUSANNE. ; 73:3
- Annan publikation (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Chemical vapour deposition of TiO and Ti2O3 from TiCl4/H-2/CO2 gas mixtures was studied. A temperature of 1000 degrees C and pressures in the range (13-6.7) x 10(3) Pa were utilized. Mainly silica was used as substrate material and in the case of Ti2O3 (
Nyckelord
- CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; TIO; TI2O3; TICL4/H-2/CO2 PROCESS; TITANIUM-OXIDES; THIN-FILMS
Publikations- och innehållstyp
- vet (ämneskategori)
- ovr (ämneskategori)
Till lärosätets databas
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- FREDRIKSSON, E
- CARLSSON, JO
- Artiklar i publikationen
- SURFACE & COATIN ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
