id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-94805"
Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-94805" > Comparative Study O...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
- Abermann, Stephan (författare)
Comparative Study On The Impact Of TiN and Mo Metal Gates ON MOCVD-Grown HfO2 and ZrO2 High-k Dielectrics For CMOS Technology
- Artikel/kapitelEngelska2006
Förlag, utgivningsår, omfång ...
- 2006
- printrdacarrier
Nummerbeteckningar
- LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-94805
- https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-94805URI
Kompletterande språkuppgifter
- Språk:engelska
Ingår i deldatabas
- SwePubSwePub
Klassifikation
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
- Sjöblom, GustafUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)gusjo205 (författare)
- Efavi, Johnson (författare)
- Lemme, Max (författare)
- Olsson, Jörgen,1966-Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)jorgolss (författare)
- Bertagnolli, Emmerich (författare)
- Uppsala universitetFasta tillståndets elektronik (creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
- Ingår i:Proceedings of 28th International Conference on the Physics of Semiconductors (ICPS)
Internetlänk
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Abermann, Stepha ...
- Sjöblom, Gustaf
- Efavi, Johnson
- Lemme, Max
- Olsson, Jörgen, ...
- Bertagnolli, Emm ...
- Artiklar i publikationen
- Proceedings of 2 ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
