SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Ravani P)
 

Sökning: WFRF:(Ravani P) > Investigation of th...

Investigation of the breakdown voltage in high voltage 4H-SiC BJT with respect to oxide and interface charges

Salemi, Arash (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Elahipanah, Hossein (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Zetterling, Carl-Mikael, 1966- (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
visa fler...
Östling, Mikael (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
visa färre...
 (creator_code:org_t)
Trans Tech Publications Inc. 2015
2015
Engelska.
Ingår i: Materials Science Forum. - : Trans Tech Publications Inc.. - 0255-5476 .- 1662-9752. - 9783038354789 ; 821-823, s. 834-837
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • Ion implantation in silicon carbide (SiC) induces defects during the process. Implantation free processing can eliminate these problems. The junction termination extension (JTE) can also be formed without ion implantation in SiC bipolar junction transistor (BJT) using a well-controlled etching into the epitaxial base layer. The fixed charges at the SiC/SiO2 interface modify the effective dose of the JTEs, leakage current, and breakdown voltage. In this paper the influence of fixed charges (positive and negative) and also interface trap density at the SiC/SiO2 interface on the breakdown voltage in 4.5 kV 4H-SiC non-ion implanted BJT have been simulated. SiO2 as a surface passivation layer including interface traps and fixed charges has been considered in the analysis. Simulation result shows that the fixed charges influence the breakdown voltage significantly more than the interface traps. It also shows that the positive fixed charges reduce the breakdown voltage more than the negative fixed charges. The combination of interface traps and fixed charges must be considered when optimizing the breakdown voltage.

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)

Nyckelord

Bipolar junction transistor (BJT)
Fixed charges
Implantation free
Interface traps
Junction termination extension (JTE)
Oxide
Silicon carbide (SiC)
Electric breakdown
Heterojunction bipolar transistors
Ion implantation
Ions
Oxides
Silicon
Silicon carbide
Silicon oxides
Transistors
Interface trap density
Junction termination extensions
Negative fixed charge
SiC bipolar junction transistors
Silicon carbides (SiC)
Surface passivation
Bipolar transistors
Informations- och kommunikationsteknik
Information and Communication Technology

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy