Sökning: WFRF:(Doornbos G.) >
High-k dielectrics ...
High-k dielectrics on (100) and (110) n-InAs: Physical and electrical characterizations
-
Wang, C. H. (författare)
-
Doornbos, G. (författare)
-
Astromskas, G. (författare)
-
visa fler...
-
Vellianitis, G. (författare)
-
Oxland, R. (författare)
-
Holland, M. C. (författare)
-
Huang, M. L. (författare)
-
Lin, C. H. (författare)
-
Hsieh, C. H. (författare)
-
Chang, Y. S. (författare)
-
Lee, T. L. (författare)
-
Chen, Y. Y. (författare)
-
- Ramvall, Peter (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Lind, Erik (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH,Solid State Physics,Department of Physics,Faculty of Engineering, LTH
-
Hsu, W. C. (författare)
-
- Wernersson, Lars-Erik (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH,Solid State Physics,Department of Physics,Faculty of Engineering, LTH
-
Droopad, R. (författare)
-
Passlack, M. (författare)
-
Diaz, C. H. (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- AIP Publishing, 2014
- 2014
- Engelska.
-
Ingår i: AIP Advances. - : AIP Publishing. - 2158-3226. ; 4:4
- Relaterad länk:
-
http://dx.doi.org/10... (free)
-
visa fler...
-
https://aip.scitatio...
-
https://lup.lub.lu.s...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Two high-k dielectric materials (Al2O3 and HfO2) were deposited on n-type (100) and (110) InAs surface orientations to investigate physical properties of the oxide/semiconductor interfaces and the interface trap density (D-it). X-ray photoelectron spectroscopy analyses (XPS) for native oxides of (100) and (110) as-grown n-InAs epi wafers show an increase in As-oxide on the (100) surface and an increase in InOx on the (110) surface. In addition, XPS analyses of high-k (Al2O3 and HfO2) on n-InAs epi show that the intrinsic native oxide difference between (100) and (110) epi surfaces were eliminated by applying conventional in-situ pre-treatment (TriMethyAluminium (TMA)) before the high-k deposition. The capacitance-voltage (C-V) characterization of HfO2 and Al2O3 MOSCAPs on both types of n-InAs surfaces shows very similar C-V curves. The interface trap density (D-it) profiles show D-it minima of 6.1 x 10(12/)6.5 x 10(12) and 6.6 x 10(12)/7.3 x 10(12) cm(-2) eV(-1) for Al2O3 and HfO2, respectively for (100) and (110) InAs surfaces. The similar interface trap density (D-it) on (100) and (110) surface orientation were observed, which is beneficial to future InAs FinFET device with both (100) and (110) surface channel orientations present. (C) 2014 Author(s). All article content, except where otherwise noted, is licensed under a Creative Commons Attribution 3.0 Unported License.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Wang, C. H.
-
Doornbos, G.
-
Astromskas, G.
-
Vellianitis, G.
-
Oxland, R.
-
Holland, M. C.
-
visa fler...
-
Huang, M. L.
-
Lin, C. H.
-
Hsieh, C. H.
-
Chang, Y. S.
-
Lee, T. L.
-
Chen, Y. Y.
-
Ramvall, Peter
-
Lind, Erik
-
Hsu, W. C.
-
Wernersson, Lars ...
-
Droopad, R.
-
Passlack, M.
-
Diaz, C. H.
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Elektroteknik oc ...
-
- NATURVETENSKAP
-
NATURVETENSKAP
-
och Fysik
-
och Den kondenserade ...
- Artiklar i publikationen
-
AIP Advances
- Av lärosätet
-
Lunds universitet