SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Littow Pontus)
 

Sökning: WFRF:(Littow Pontus) > Reduced annealing t...

  • Persson, Anton E.O.Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH (författare)

Reduced annealing temperature for ferroelectric HZO on InAs with enhanced polarization

  • Artikel/kapitelEngelska2020

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • AIP Publishing,2020

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:lup.lub.lu.se:c3bf612a-365b-49aa-a06d-4d96f07466b8
  • https://lup.lub.lu.se/record/c3bf612a-365b-49aa-a06d-4d96f07466b8URI
  • https://doi.org/10.1063/1.5141403DOI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype
  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype

Anmärkningar

  • Deposition, annealing, and integration of ferroelectric Hf x Zr 1 - x O 2 (HZO) thin films on the high-mobility semiconductor InAs using atomic layer deposition are investigated. Electrical characterization reveals that the HZO films on InAs exhibit an enhanced remanent polarization compared to films formed on a reference TiN substrate, exceeding 20 μ C / cm 2 even down to an annealing temperature of 370 °C. For device applications, the thermal processes required to form the ferroelectric HZO phase must not degrade the high-κ/InAs interface. We find by evaluation of the capacitance-voltage characteristics that the electrical properties of the high-κ/InAs are not significantly degraded by the annealing process, and high-resolution transmission electron microscopy verifies a maintained sharp high-κ/InAs interface.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Athle, RobinLund University,Lunds universitet,NanoLund: Centre for Nanoscience,Annan verksamhet, LTH,Lunds Tekniska Högskola,Nanoelektronik,Forskargrupper vid Lunds universitet,Other operations, LTH,Faculty of Engineering, LTH,Nano Electronics,Lund University Research Groups(Swepub:lu)ro1042at (författare)
  • Littow, PontusLund University (författare)
  • Persson, Karl MagnusLund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH(Swepub:lu)eit-krp (författare)
  • Svensson, JohannesLund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH(Swepub:lu)eit-jhs (författare)
  • Borg, MattiasLund University,Lunds universitet,NanoLund: Centre for Nanoscience,Annan verksamhet, LTH,Lunds Tekniska Högskola,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Other operations, LTH,Faculty of Engineering, LTH,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH(Swepub:lu)ma3352bo (författare)
  • Wernersson, Lars ErikLund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH(Swepub:lu)ftf-lwe (författare)
  • Institutionen för elektro- och informationsteknikInstitutioner vid LTH (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Applied Physics Letters: AIP Publishing116:60003-69511077-3118

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy