SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Tissot Heloise)
 

Sökning: WFRF:(Tissot Heloise) > Real-Time Study of ...

Real-Time Study of CVD Growth of Silicon Oxide on Rutile TiO2(110) Using Tetraethyl Orthosilicate

Chaudhary, Shilpi (författare)
Lund University,Lunds universitet,Synkrotronljusfysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Synchrotron Radiation Research,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
Head, Ashley (författare)
Lund University,Lunds universitet,Synkrotronljusfysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Synchrotron Radiation Research,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
Sanchez-de-Armas, Rocio (författare)
Uppsala universitet,Materialteori
visa fler...
Tissot, Heloise (författare)
Olivieri, Giorgia (författare)
Bournel, Fabrice (författare)
Montelius, Lars (författare)
Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
Ye, Lei (författare)
Lund University,Lunds universitet,Tillämpad biokemi,Centrum för tillämpade biovetenskaper,Kemiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Pure and Applied Biochemistry,Center for Applied Life Sciences,Department of Chemistry,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
Rochet, Francois (författare)
Gallet, Jean-Jacques (författare)
Brena, Barbara (författare)
Uppsala universitet,Materialteori
Schnadt, Joachim (författare)
Lund University,Lunds universitet,Synkrotronljusfysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Synchrotron Radiation Research,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
visa färre...
 (creator_code:org_t)
2015-08-05
2015
Engelska.
Ingår i: Journal of Physical Chemistry C. - : American Chemical Society (ACS). - 1932-7447 .- 1932-7455. ; 119:33, s. 19149-19161
Relaterad länk:
http://dx.doi.org/10... (free)
visa fler...
https://doi.org/10.1...
https://uu.diva-port... (primary) (Raw object)
https://lup.lub.lu.s...
https://doi.org/10.1...
https://urn.kb.se/re...
visa färre...
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • The interaction of the ruffle TiO2(110) surface with tetraethyl orthosilicate (TEOS) in the pressure range from UHV to 1 mbar as well as the TEOS-based chemical vapor deposition of SiO2 on the TiO2(110) surface were monitored in real time using near-ambient pressure X-ray photoelectron spectroscopy. The experimental data and density functional theory calculations confirm the dissociative adsorption of TEOS on the surface already at room temperature. At elevated pressure, the ethoxy species formed in the adsorption process undergoes further surface reactions toward a carboxyl species not observed in the absence of a TEOS gas phase reservoir. Annealing of the adsorption layer leads to the formation of SiO2, and an intermediate oxygen species assigned to a mixed titanium/silicon oxide is identified. Atomic force microscopy confirms the morphological changes after silicon oxide formation.

Ämnesord

NATURVETENSKAP  -- Kemi -- Fysikalisk kemi (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Chemical Sciences -- Physical Chemistry (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Fysik (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Physical Sciences (hsv//eng)

Publikations- och innehållstyp

art (ämneskategori)
ref (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy