SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

AMNE:(TEKNIK OCH TEKNOLOGIER Kemiteknik Kemiska processer)
 

Sökning: AMNE:(TEKNIK OCH TEKNOLOGIER Kemiteknik Kemiska processer) > (1985-1989) > The mechanism for t...

The mechanism for the O2 dissociation on Ni(100)

Panas, Itai, 1959 (författare)
Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
Siegbahn, Per (författare)
Wahlgren, Ulf (författare)
 (creator_code:org_t)
AIP Publishing, 1989
1989
Engelska.
Ingår i: Journal of Chemical Physics. - : AIP Publishing. - 1089-7690 .- 0021-9606. ; 90, s. 6791-6801
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • The dissociation of O2 on Ni(100) has been studied using a cluster model approach. The three principally different reaction pathways, over an on‐top position, over a bridge position, and over a fourfold hollow position, were considered. The dissociation mechanisms were found to be very similar for these pathways. In the entrance channel a chemisorbed, peroxo‐form, of molecular O2 is first formed, which is strongly bound to the Ni(100) surface by two polar covalent bonds. The binding energy at the fourfold hollow site is found to be 78 kcal/mol, which is about 20 kcal/mol larger than for the other two sites, and much larger than the chemisorption energies for the experimentally observed O2 on Pt(111) and Ag(110). The reason for this difference is discussed. In a simplified valence‐bond picture the wave function of this molecularly bound O2 has a large component of a πu to πg excited state of O2. The dissociation of O2 then proceeds by two stepwise electron transfers from the surface over to the O2 3σu orbital, which completes the breaking of the O–O bond. In this latter process the energy passes over a local barrier, which is still far below the long distance asymptote, however. The local barrier height is much higher for the fourfold hollow dissociation, 35 kcal/mol over the local molecular minimum, than for the other two pathways, where the barrier height is only 6–8 kcal/mol. The 3d orbitals on nickel remain passive for all the three dissociation pathways, which is in line with the fact that also nontransition metals dissociate O2. This behavior is in contrast to the dissociation of H2 on Ni(100), where the 3d orbitals play a key role for the on‐top dissociation.

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Kemiteknik -- Kemiska processer (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Chemical Engineering -- Chemical Process Engineering (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Kemi -- Teoretisk kemi (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Chemical Sciences -- Theoretical Chemistry (hsv//eng)

Nyckelord

CHEMISORPTION
BINDING ENERGY
BARRIER HEIGHT
DISSOCIATION
SORPTIVE PROPERTIES
OXYGEN
NICKEL

Publikations- och innehållstyp

art (ämneskategori)
ref (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...
Panas, Itai, 195 ...
Siegbahn, Per
Wahlgren, Ulf
Om ämnet
TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
TEKNIK OCH TEKNO ...
och Kemiteknik
och Kemiska processe ...
NATURVETENSKAP
NATURVETENSKAP
och Kemi
och Teoretisk kemi
Artiklar i publikationen
Journal of Chemi ...
Av lärosätet
Chalmers tekniska högskola

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy