Charging Phenomena at the Interface Between High-k Dielectrics and SiOx Interlayers (Invited)

Engström, Olof,1943Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology (författare)

Raeissi, Bahman,1979Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology(Swepub:cth)raeissin (författare)
Piscator, Johan,1977Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology(Swepub:cth)e8johanp (författare)
Mitrovic, I. Z.University of Liverpool (författare)
Hall, S.University of Liverpool (författare)
Gottlob, H. D. B. (författare)
Schmidt, M (författare)
Hurley, P.K-University College Cork, National University Of Ireland (författare)
Cherkaoui, K.Université de Lyon (författare)
Chalmers tekniska högskolaUniversity of Liverpool (creator_code:org_t)

Ingår i:Journal of Telecommunications and Information Technology1, s. 10-1509-45531899-8852

Av författaren/redakt...: Engström, Olof, ...; Raeissi, Bahman, ...; Piscator, Johan, ...; Mitrovic, I. Z.; Hall, S.; Gottlob, H. D. B ...; visa fler...; Schmidt, M; Hurley, P.K-; Cherkaoui, K.; visa färre...

Om ämnet

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER: TEKNIK OCH TEKNO ...; och Annan teknik; och Övrig annan tekn ...

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.