onr:"swepub:oai:research.chalmers.se:cc1552f2-0c0e-4a86-a15e-559b4b0d6edf"
Sökning: onr:"swepub:oai:research.chalmers.se:cc1552f2-0c0e-4a86-a15e-559b4b0d6edf" > Internal photoemiss...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
- Engström, Olof,1943Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology (författare)
Internal photoemission technique for high-k oxide/semiconductor band offset determination: The influence of semiconductor bulk properties
- Artikel/kapitelEngelska2014
Förlag, utgivningsår, omfång ...
- 2014
Nummerbeteckningar
- LIBRIS-ID:oai:research.chalmers.se:cc1552f2-0c0e-4a86-a15e-559b4b0d6edf
- ISBN:9781479943784
- https://research.chalmers.se/publication/208850URI
- https://doi.org/10.1109/ESSDERC.2014.6948837DOI
Kompletterande språkuppgifter
- Språk:engelska
- Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
- SwePubSwePub
Klassifikation
Anmärkningar
- A method for extracting energy band alignment of metal/high-k oxide/semiconductor structures from internal photoemission experiments is discussed by modeling the excitation and relaxation processes taking place in the semiconductor at photon irradiation. Classical literature data on photoemission of electrons from silicon and germanium surfaces into vacuum is compared with more recently published data on HfO2/Si and HfO2/Ge structures to identify characteristic features of photoelectric yield. We find that a dominating structure of such spectra, which often has been assumed to originate from the oxide barrier, derives from the energy dependence of absorption coefficient and mean free paths of excited electrons. Our results indicate that most IPE data on high-k oxide/silicon and germanium structures need re-interpretation.
Ämnesord och genrebeteckningar
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER Elektroteknik och elektronik hsv//swe
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering hsv//eng
- band offset
- MOS barrier
- IPE
- high-k
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
- Przewlocki, H. M. (författare)
- Mitrovic, I.Z.University of Liverpool (författare)
- Chalker, P.R.University of Liverpool (författare)
- Chalmers tekniska högskolaUniversity of Liverpool (creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
- Ingår i:44th European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 2014, Palazzo del CasinoVenezia Lido, Italy, 22-26 September 2014, s. 369-3721930-88769781479943784
Internetlänk
Hitta via bibliotek
- 44th European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 2014, Palazzo del ... (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Engström, Olof, ...
- Przewlocki, H. M ...
- Mitrovic, I.Z.
- Chalker, P.R.
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Elektroteknik oc ...
- Artiklar i publikationen
- 44th European So ...
- Av lärosätet
- Chalmers tekniska högskola
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
