Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:kth-20943" >
Solubility limit an...
Solubility limit and precipitate formation in Al-doped 4H-SiC epitaxial material
-
- Linnarsson, Margareta K. (författare)
- KTH,Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT,Royal Institute of Technology, Solid State Electronics, P. O. Box E229, SE-164 40 Kista-Stockholm, Sweden
-
- Janson, M. S. (författare)
- Royal Institute of Technology, Solid State Electronics, P. O. Box E229, SE-164 40 Kista-Stockholm, Sweden
-
- Zimmermann, U. (författare)
- Royal Institute of Technology, Solid State Electronics, P. O. Box E229, SE-164 40 Kista-Stockholm, Sweden
-
visa fler...
-
- Svensson, B. G. (författare)
- Royal Institute of Technology, Solid State Electronics, P. O. Box E229, SE-164 40 Kista-Stockholm, Sweden, Oslo University, Physical Electronics, Department of Physics, P. B. 1048 Blindern, N-0316 Oslo, Norway
-
- Persson, Per (författare)
- Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik
-
- Hultman, Lars (författare)
- Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik
-
- Wong-Leung, J. (författare)
- Australian National University, Dept. of Electronics Mat. Eng., Res. Sch. of Phys. Sci. and Eng., Canberra, ACT 0200, Australia
-
- Karlsson, S. (författare)
- ACREO AB, P. O. Box E236, SE-164 40 Kista-Stockholm, Sweden
-
- Schoner, A. (författare)
- Schöner, A., ACREO AB, P. O. Box E236, SE-164 40 Kista-Stockholm, Sweden
-
- Bleichner, H. (författare)
- ABB Corporate Research, P. O. Box E215, SE-164 40 Kista-Stockholm, Sweden
-
- Olsson, E. (författare)
- Ångström Laboratory, Analytical Material Physics, SE-751 21 Uppsala, Sweden
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- AIP Publishing, 2001
- 2001
- Engelska.
-
Ingår i: Applied Physics Letters. - : AIP Publishing. - 0003-6951 .- 1077-3118. ; 79:13, s. 2016-2018
- Relaterad länk:
-
https://openresearch...
-
visa fler...
-
https://urn.kb.se/re...
-
https://doi.org/10.1...
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Heavily Al-doped 4H-SiC structures have been prepared by vapor phase epitaxy. Subsequent anneals have been carried out in an Ar atmosphere in a rf-heated furnace between 1500 degreesC and 2000 degreesC for 0.5 to 3 h. Secondary ion mass spectrometry has been utilized to obtain Al concentration versus depth as well as lateral distributions (ion images). Transmission electron microscopy (TEM) has been employed to study the crystallinity and determine phase composition after heat treatment. A solubility limit of similar to 2x10(20) Al/cm(3) (1900 degreesC) is extracted. Three-dimensional ion images show that the Al distribution does not remain homogeneous in layers heat treated at 1700 degreesC or above when the Al concentration exceeds 2x10(20) cm(-3). Al-containing precipitates are identified by energy-filtered TEM.
Nyckelord
- silicon-carbide
- chemical interaction
- phase-equilibria
- si-c
- aluminum
- system
- TECHNOLOGY
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Linnarsson, Marg ...
-
Janson, M. S.
-
Zimmermann, U.
-
Svensson, B. G.
-
Persson, Per
-
Hultman, Lars
-
visa fler...
-
Wong-Leung, J.
-
Karlsson, S.
-
Schoner, A.
-
Bleichner, H.
-
Olsson, E.
-
visa färre...
- Artiklar i publikationen
-
Applied Physics ...
- Av lärosätet
-
Kungliga Tekniska Högskolan
-
Linköpings universitet