Dynamic parameter estimation of atomic layer deposition kinetics applied to in situ quartz crystal microbalance diagnostics

↓ Direkt till sidans innehåll
↓ Direkt till sidans sekundära innehåll (sidomenyn)

Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-224981" > Dynamic parameter e...

1 av 1
Föregående post
Nästa post
Till träfflistan

Dynamic parameter estimation of atomic layer deposition kinetics applied to in situ quartz crystal microbalance diagnostics

Holmqvist, Anders (författare): Lund University,Lunds universitet,Avdelningen för kemiteknik,Institutionen för processteknik och tillämpad biovetenskap,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Division of Chemical Engineering,Department of Process and Life Science Engineering,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

Törndahl, Tobias (författare): Uppsala University,Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik

Magnusson, Fredrik (författare): Lund University,Lunds universitet,Institutionen för reglerteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Automatic Control,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

visa fler...

Zimmermann, Uwe (författare): Uppsala University,Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik

Stenström, Stig (författare): Lund University,Lunds universitet,Avdelningen för kemiteknik,Institutionen för processteknik och tillämpad biovetenskap,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Division of Chemical Engineering,Department of Process and Life Science Engineering,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH

visa färre...

(creator_code:org_t)

Elsevier BV, 2014
2014
Engelska.
Ingår i: Chemical Engineering Science. - : Elsevier BV. - 0009-2509 .- 1873-4405. ; 111, s. 15-33

Relaterad länk:: https://lup.lub.lu.s...; visa fler...; https://portal.resea... (primary) (free); http://dx.doi.org/10...; https://urn.kb.se/re...; https://doi.org/10.1...; https://lup.lub.lu.s...; visa färre...

Tidskriftsartikel (refereegranskat)

Abstract Ämnesord

Stäng

This paper presents the elaboration of an experimentally validated model of a continuous cross flow atomic layer deposition (ALD) reactor with temporally separated precursor pulsing encoded in the Moclelica language. For the experimental validation of the model, in situ quartz crystal microbalance (QCM) diagnostics was used to yield submonolayer resolution of mass deposition resulting from thin film growth of ZnO from Zn(C-2)(2) and H2O precursors. The ZnO ALD reaction intrinsic kinetic mechanism that was developed accounted for the temporal evolution of the equilibrium fractional surface concentrations of precursor adducts and their transition states for each half reaction, This mechanism was incorporated into a rigorous model of reactor transport, which comprises isothermal compressible equations for the conservation of mass, momentum and gas-phase species. The physically based model in this way relates the local partial pressures of precursors to the dynamic composition of the growth surface, and ultimately governs the accumulated mass trajectory at the QCM sensor. Quantitative rate information can then be extracted by means of dynamic parameter estimation. The continuous operation of the reactor is described by limit-cycle dynamic solutions and numerically computed using Radau collocation schemes and solved using CasADi's interface to [PORT. Model predictions of the transient mass gain per unit area of exposed surface QCM sensor, resolved at a single pulse sequence, were in good agreement with experimental data under a wide range of operating conditions. An important property of the limit-cycle solution procedure is that it enables the systematic approach to analyze the dynamic nature of the growth surface composition as a function of process operating parameters. Especially, the dependency of the film growth rate per limit-cycle on the half-cycle precursor exposure close and the process temperature was thoroughly assessed and the difference between ALD in saturating and in non-saturating film growth conditions distinguished. (c) 2014 Elsevier Ltd. All rights reserved.

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik -- Reglerteknik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Control Engineering (hsv//eng)
TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Kemiteknik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Chemical Engineering (hsv//eng)

Nyckelord

Atomic layer deposition
Mathematical modeling
In situ film characterization
Experimental model validation
Parameter identification
Optimization
Engineering Science with specialization in Electronics
Teknisk fysik med inriktning mot elektronik
Atomic layer deposition
Mathematical modeling
In situ film characterization
Experimental model validation
Parameter identification
Optimization

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Chemical Engineering Science (Sök värdpublikationen i LIBRIS)

Till lärosätets databas

1 av 1
Föregående post
Nästa post
Till träfflistan

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...: Holmqvist, Ander ...; Törndahl, Tobias; Magnusson, Fredr ...; Zimmermann, Uwe; Stenström, Stig

Om ämnet

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER: TEKNIK OCH TEKNO ...; och Elektroteknik oc ...; och Reglerteknik

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER: TEKNIK OCH TEKNO ...; och Kemiteknik

Artiklar i publikationen: Chemical Enginee ...

Av lärosätet: Uppsala universitet; Lunds universitet

Sök utanför SwePub

Sök vidare i:: Google; Google Book Search; Google Scholar

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

LIBRIS.kb.se