WFRF:(Zhang Bin Bin)
Sökning: WFRF:(Zhang Bin Bin) > (2000-2004) > Influence of a Si l...
Influence of a Si layer intercalated between Si0.75Ge0.25 and Ni on the behavior of the resulting NiSi1-uGeu film
- Seger, Johan (författare)
-
- Jarmar, Tobias (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för teknikvetenskaper,Materialvetenskap
-
- Ericson, Fredric (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för teknikvetenskaper,Materialvetenskap
- visa fler...
- Hållstedt, Julius (författare)
- Zhang, Zhi-Bin (författare)
- Zhang, Shi-Li (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2004
- 2004
- Odefinierat språk.
- Ingår i: Journal of Applied Physics. ; 96, s. 7179-7182
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Hitta via bibliotek
- Journal of Applied Physics (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Seger, Johan
- Jarmar, Tobias
- Ericson, Fredric
- Smith, Ulf
- Hållstedt, Juliu ...
- Zhang, Zhi-Bin
- visa fler...
- Zhang, Shi-Li
- visa färre...
- Artiklar i publikationen
- Journal of Appli ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
