Sökning: onr:"swepub:oai:research.chalmers.se:d7283a89-716c-41a4-8f87-304a6ade7677" >
Addressing the elec...
Addressing the electrical degradation of 845 nm micro-transfer printed VCSILs through TCAD simulations
-
- Zenari, M. (författare)
- Università Degli Studi di Padova,University of Padua
-
- Buffolo, M. (författare)
- Università Degli Studi di Padova,University of Padua
-
- De Santi, C. (författare)
- Università Degli Studi di Padova,University of Padua
-
visa fler...
-
Goyvaerts, J. (författare)
-
- Grabowski, Alexander, 1993 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
- Gustavsson, Johan, 1974 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
- Baets, Roel G. (författare)
- Universiteit Gent,Ghent university
-
- Larsson, Anders, 1957 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
- Roelkens, Gunther (författare)
- Universiteit Gent,Ghent university
-
- Meneghesso, G. (författare)
- Università Degli Studi di Padova,University of Padua
-
- Zanoni, E. (författare)
- Università Degli Studi di Padova,University of Padua
-
- Meneghini, M. (författare)
- Università Degli Studi di Padova,University of Padua
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- 2023
- 2023
- Engelska.
-
Ingår i: Proceedings of the International Conference on Numerical Simulation of Optoelectronic Devices, NUSOD. - 2158-3234. ; 2023-September, s. 91-92
- Relaterad länk:
-
https://doi.org/10.1...
-
visa fler...
-
https://research.cha...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- In this work we present the electrical modeling of novel 845 nm vertical-cavity silicon-integrated lasers (VCSILs) for silicon photonics (SiPh). We tested the reliability of the devices by submitting them to high current stress, corresponding to ≈ 20xIth, to observe the degradation as a function of time. During the stress experiment, we monitored the electrical characteristics at regular intervals and we observed two separate degradation phenomena: the series resistance increment and the lowering of the turn-on voltage. Thanks to a Poisson-drift diffusion simulator we simulated the I-V characteristics and the band diagrams to interpret the degradation phenomena. The results of the simulations confirmed that the electrical degradation can be caused by the diffusion of compensation impurities originating from the p-contact layers. The same mechanism was also responsible of the optical degradation of the devices.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- VCSIL
- Degradation
- Silicon photonics
- Diffusion
- Impurities
Publikations- och innehållstyp
- kon (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Zenari, M.
-
Buffolo, M.
-
De Santi, C.
-
Goyvaerts, J.
-
Grabowski, Alexa ...
-
Gustavsson, Joha ...
-
visa fler...
-
Baets, Roel G.
-
Larsson, Anders, ...
-
Roelkens, Gunthe ...
-
Meneghesso, G.
-
Zanoni, E.
-
Meneghini, M.
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Elektroteknik oc ...
-
och Annan elektrotek ...
- Artiklar i publikationen
-
Proceedings of t ...
- Av lärosätet
-
Chalmers tekniska högskola