SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Lu Jun)
 

Sökning: WFRF:(Lu Jun) > (2010-2014) > Surface-energy trig...

LIBRIS Formathandbok  (Information om MARC21)
FältnamnIndikatorerMetadata
00004612naa a2200733 4500
001oai:DiVA.org:kth-14032
003SwePub
008100708s2010 | |||||||||||000 ||eng|
009oai:DiVA.org:uu-119226
009oai:gup.ub.gu.se/112714
009oai:DiVA.org:liu-53937
0247 a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-140322 URI
0247 a https://doi.org/10.1063/1.32916792 DOI
0247 a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-1192262 URI
0247 a https://gup.ub.gu.se/publication/1127142 URI
0247 a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-539372 URI
040 a (SwePub)kthd (SwePub)uud (SwePub)gud (SwePub)liu
041 a engb eng
042 9 SwePub
072 7a ref2 swepub-contenttype
072 7a art2 swepub-publicationtype
1001 a Luo, Junu KTH,Integrerade komponenter och kretsar,Royal Institute of Technology4 aut0 (Swepub:kth)u1htguam
2451 0a Surface-energy triggered phase formation and epitaxy in nanometer-thick Ni1-xPtx silicide films
264 1b AIP Publishing,c 2010
338 a print2 rdacarrier
500 a QC20100708
520 a The formation of ultrathin silicide films of Ni1-xPtx at 450-850 degrees C is reported. Without Pt (x=0) and for t(Ni)< 4 nm, epitaxially aligned NiSi2-y films readily grow and exhibit extraordinary morphological stability up to 800 degrees C. For t(Ni)>= 4 nm, polycrystalline NiSi films form and agglomerate at lower temperatures for thinner films. Without Ni (x=1) and for t(Pt)=1-20 nm, the annealing behavior of the resulting PtSi films follows that for the NiSi films. The results for Ni1-xPtx of other compositions support the above observations. Surface energy is discussed as the cause responsible for the distinct behavior in phase formation and morphological stability.
650 7a NATURVETENSKAPx Fysik0 (SwePub)1032 hsv//swe
650 7a NATURAL SCIENCESx Physical Sciences0 (SwePub)1032 hsv//eng
650 7a TEKNIK OCH TEKNOLOGIERx Elektroteknik och elektronikx Annan elektroteknik och elektronik0 (SwePub)202992 hsv//swe
650 7a ENGINEERING AND TECHNOLOGYx Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineeringx Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering0 (SwePub)202992 hsv//eng
650 7a NATURVETENSKAPx Fysikx Den kondenserade materiens fysik0 (SwePub)103042 hsv//swe
650 7a NATURAL SCIENCESx Physical Sciencesx Condensed Matter Physics0 (SwePub)103042 hsv//eng
653 a annealing
653 a crystal morphology
653 a metallic epitaxial layers
653 a nanostructured materials
653 a nickel alloys
653 a nickel compounds
653 a surface energy
653 a NISI
653 a SI
653 a TECHNOLOGY
653 a COSI2
653 a Physics
653 a Fysik
653 a TECHNOLOGY
7001 a Qiu, Zhijunu Fudan University4 aut
7001 a Zha, Chaolinu KTH,Integrerade komponenter och kretsar,Royal Institute of Technology4 aut0 (Swepub:kth)u1hss86e
7001 a Zhang, Zhenu Uppsala universitet,KTH,Integrerade komponenter och kretsar,Fasta tillståndets elektronik,Royal Institute of Technology4 aut0 (Swepub:uu)zhezh386
7001 a Wu, Dongpingu Fudan University4 aut
7001 a Lu, Junu Linköpings universitet,Institutionen för fysik, kemi och biologi,Tekniska högskolan4 aut
7001 a Åkerman, Johanu Gothenburg University,Göteborgs universitet,KTH,Integrerade komponenter och kretsar,Institutionen för fysik (GU),Department of Physics (GU),Royal Institute of Technology4 aut0 (Swepub:gu)xkerjo
7001 a Östling, Mikaelu KTH,Integrerade komponenter och kretsar,Royal Institute of Technology4 aut0 (Swepub:kth)u1u0kle4
7001 a Hultman, Larsu Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan4 aut0 (Swepub:liu)larhu75
7001 a Zhang, Shi-Liu Uppsala universitet,KTH,Integrerade komponenter och kretsar,Fasta tillståndets elektronik,Royal Institute of Technology4 aut0 (Swepub:uu)shizh725
7102 a KTHb Integrerade komponenter och kretsar4 org
7730 t Applied Physics Lettersd : AIP Publishingg 96:3q 96:3x 0003-6951x 1077-3118
8564 u http://link.aip.org/link/?APL/96/031911/1
8564 8u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-14032
8564 8u https://doi.org/10.1063/1.3291679
8564 8u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-119226
8564 8u https://gup.ub.gu.se/publication/112714
8564 8u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-53937

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy