WFRF:(Ohlsen H)
Sökning: WFRF:(Ohlsen H) > GROWTH AND CHARACTE...
GROWTH AND CHARACTERIZATION OF YTTRIUM-OXIDE THIN-LAYERS ON SILICON DEPOSITED BY YTTRIUM EVAPORATION IN ATOMIC OXYGEN
-
- HUDNER, J (författare)
- Uppsala universitet
-
- OHLSEN, H (författare)
- Uppsala universitet
-
- FREDRIKSSON, E (författare)
- Uppsala universitet
- (creator_code:org_t)
- PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD, 1995
- Engelska 967-970 s.
- Ingår i: VACUUM. - : PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD. ; 46:8-10
- Annan publikation (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Polycrystalline yttrium oxide films have been grown cinder high vacuum conditions by evaporation of yttrium in an atomic oxygen plasma. Well-oxidized uniform layers in the thickness interval 30-170 nm were deposited on silicon over a large temperature ra
Nyckelord
- YBA2CU3O7-X FILMS; EPITAXIAL-GROWTH; BUFFER LAYERS; SI
Publikations- och innehållstyp
- vet (ämneskategori)
- ovr (ämneskategori)
Till lärosätets databas
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- HUDNER, J
- OHLSEN, H
- FREDRIKSSON, E
- Artiklar i publikationen
- VACUUM
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
