SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Gudmundsson Jon Tomas 1965 )
 

Sökning: WFRF:(Gudmundsson Jon Tomas 1965 ) > Modeling of high po...

LIBRIS Formathandbok  (Information om MARC21)
FältnamnIndikatorerMetadata
00004771naa a2200529 4500
001oai:DiVA.org:kth-306575
003SwePub
008211220s2021 | |||||||||||000 ||eng|
009oai:DiVA.org:liu-181787
0247 a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-3065752 URI
0247 a https://doi.org/10.1088/1361-6595/ac352c2 DOI
0247 a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-1817872 URI
040 a (SwePub)kthd (SwePub)liu
041 a engb eng
042 9 SwePub
072 7a ref2 swepub-contenttype
072 7a art2 swepub-publicationtype
1001 a Eliasson, H.u Linköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)n/a
2451 0a Modeling of high power impulse magnetron sputtering discharges with graphite target
264 c 2021-11-30
264 1b IOP Publishing Ltd,c 2021
338 a print2 rdacarrier
500 a QC 20211220
500 a Funding Agencies|Free State of Saxony; European Regional Development FundEuropean Commission [100336119]; Icelandic Research Fund [196141]; Swedish Research CouncilSwedish Research CouncilEuropean Commission [VR 201804139]; Swedish Government Strategic Research Area in Materials Science on Functional Materials at Linkoping University (Faculty Grant SFO-Mat-LiU) [2009-00971]
520 a The ionization region model (IRM) is applied to model a high power impulse magnetron sputtering discharge in argon with a graphite target. Using the IRM, the temporal variation of the various species and the average electron energy, as well as internal parameters such as the ionization probability, back-attraction probability, and the ionized flux fraction of the sputtered species, is determined. It is found that thedischarge develops into working gas recycling and most of the discharge current at the cathode target surface is composed of Ar+ ions, which constitute over 90% of the discharge current, while the contribution of the C+ ions is always small (<5%), even for peak current densities close to 3 A cm(-2). For the target species, the time-averaged ionization probability is low, or 13-27%, the ion back-attraction probability during the pulse is high (>92%), and the ionized flux fraction is about 2%. It is concluded that in the operation range studied here it is a challenge to ionize carbon atoms, that are sputtered off of a graphite target in a magnetron sputtering discharge, when depositing amorphous carbon films.
650 7a NATURVETENSKAPx Fysikx Fusion, plasma och rymdfysik0 (SwePub)103032 hsv//swe
650 7a NATURAL SCIENCESx Physical Sciencesx Fusion, Plasma and Space Physics0 (SwePub)103032 hsv//eng
653 a magnetron sputtering discharge
653 a graphite
653 a high power impulse magnetron sputtering
653 a carbon
7001 a Rudolph, M.u Leibniz Inst Surface Engn IOM, Permoserstr 15, D-04318 Leipzig, Germany.4 aut
7001 a Brenning, Nilsu Linköpings universitet,KTH,Rymd- och plasmafysik,Linköping Univ, Plasma & Coatings Phys Div, IFM Mat Phys, SE-58183 Linköping, Sweden.,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten,KTH Royal Inst Technol, Sweden4 aut0 (Swepub:liu)nilbr83
7001 a Hajihoseini, H.u Univ Twente, MESA Inst Nanotechnol, Ind Focus Grp XUV Opt, Drienerlolaan 5, NL-7522 NB Enschede, Netherlands.4 aut
7001 a Zanaska, Michalu Linköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)micza83
7001 a Adriaans, M. J.u Eindhoven Univ Technol, Dept Appl Phys, Eindhoven, Netherlands.4 aut
7001 a Raadu, Michael A.u KTH,Rymd- och plasmafysik,KTH Royal Inst Technol, Sweden4 aut0 (Swepub:kth)u1ajzw7w
7001 a Minea, T. M.u Univ Paris Saclay, Lab Phys Gaz & Plasmas LPGP, CNRS, UMR 8578, F-91405 Orsay, France.4 aut
7001 a Gudmundsson, Jon Tomas,d 1965-u KTH,Rymd- och plasmafysik,Univ Iceland, Sci Inst, Dunhaga 3, IS-107 Reykjavik, Iceland.,KTH Royal Inst Technol, Sweden; Univ Iceland, Iceland4 aut0 (Swepub:kth)u1q27a34
7001 a Lundin, Danielu Linköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)danlu03
7102 a Linköpings universitetb Plasma och ytbeläggningsfysik4 org
7730 t Plasma sources science & technologyd : IOP Publishing Ltdg 30:11q 30:11x 0963-0252x 1361-6595
8564 u http://liu.diva-portal.org/smash/get/diva2:1619968/FULLTEXT01
8564 u https://liu.diva-portal.org/smash/get/diva2:1619968/FULLTEXT01.pdfx primaryx Raw objecty fulltext:print
8564 8u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-306575
8564 8u https://doi.org/10.1088/1361-6595/ac352c
8564 8u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-181787

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy