SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Kucheyev S. O.)
 

Sökning: WFRF:(Kucheyev S. O.) > Structural damage i...

Structural damage in ZnO bombarded by heavy ions

Azarov, A. Yu. (författare)
Titov, A. I. (författare)
Karaseov, P. A. (författare)
visa fler...
Kucheyev, S. O. (författare)
Hallén, Anders (författare)
KTH,Mikroelektronik och tillämpad fysik, MAP
Kuznetsov, A. Yu. (författare)
Svensson, B. G. (författare)
Pathak, A. P. (författare)
visa färre...
 (creator_code:org_t)
Elsevier BV, 2010
2010
Engelska.
Ingår i: Vacuum. - : Elsevier BV. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 84:8, s. 1058-1061
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • The effect of implantation parameters on damage build-up in ZnO bombarded with Bi and Er ions is studied by Rutherford backscattering/channelling spectrometry. The results show that the damage accumulation behaviour in ZnO is different dramatically from that in other semiconductors. In particular, a variation of implantation parameters, such as collision cascade density, sample temperature and ion flux, has only a minor influence on the damage accumulation in the crystal bulk for the case of such heavy ions. Moreover, an intermediate damage peak, between the surface and bulk defect peaks, is observed for all the irradiation conditions studied. The cascade density affects the behaviour of this intermediate peak with increasing ion dose.

Nyckelord

Ion implantation
Defects
ZnO
TECHNOLOGY
TEKNIKVETENSKAP

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

  • Vacuum (Sök värdpublikationen i LIBRIS)

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy