SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
 

Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101 > Monolayer calibrati...

  • Lee, Wei ChuangUniv Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland. (författare)

Monolayer calibration of endofullerenes with x-ray absorption from implanted keV ion doses

  • Artikel/kapitelEngelska2024

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • American Institute of Physics (AIP),2024
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-527894
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-527894URI
  • https://doi.org/10.1116/6.0003302DOI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • X-ray absorption spectroscopy (XAS) has the highest sensitivity for chemical element detection on surfaces. With this approach, small amounts of lanthanide-containing endofullerene molecules (Ho3N@C80) have been measured by total electron yield at a low flux bending magnet beamline. The monolayer coverage is calibrated by extrapolating the signals of constant doses (3 x 1014 cm-2) of Ho ions implanted into SiO2 with energies between 2 and 115 keV. At room temperature, the Ho XAS spectra of the molecules and implanted ions indicate trivalent but not identical Ho ground states. Still, this approach demonstrates a way for calibration of small coverages of molecules containing open core-shell elements.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Yu, LebinUniv Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland. (författare)
  • Oscarsson, Johan,1984-Uppsala universitet,Institutionen för fysik och astronomi(Swepub:uu)johos804 (författare)
  • Ochapski, Michal W.Ist Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy. (författare)
  • Sagehashi, RyunosukeUniv Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland. (författare)
  • Zhang, YangLeibniz Inst Solid State & Mat Res IFW, D-01069 Dresden, Germany. (författare)
  • Popov, Alexey A.Leibniz Inst Solid State & Mat Res IFW, D-01069 Dresden, Germany. (författare)
  • Gebeyehu, Zewdu M.Ist Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy. (författare)
  • Martini, LeonardoIst Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy. (författare)
  • Forti, StivenIst Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy. (författare)
  • Coletti, CamillaIst Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy. (författare)
  • Delley, BernardPaul Scherrer Inst PSI, Swiss Light Source, CH-5232 Villigen, Switzerland. (författare)
  • Muntwiler, MatthiasPaul Scherrer Inst PSI, Swiss Light Source, CH-5232 Villigen, Switzerland. (författare)
  • Primetzhofer, DanielUppsala universitet,Institutionen för fysik och astronomi(Swepub:uu)danpr521 (författare)
  • Greber, ThomasUniv Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland. (författare)
  • Univ Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland.Institutionen för fysik och astronomi (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films: American Institute of Physics (AIP)42:20734-21011520-8559

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy