SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
 

Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101 > Monolayer calibrati...

LIBRIS Formathandbok  (Information om MARC21)
FältnamnIndikatorerMetadata
00003485naa a2200445 4500
001oai:DiVA.org:uu-527894
003SwePub
008240516s2024 | |||||||||||000 ||eng|
0247 a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-5278942 URI
0247 a https://doi.org/10.1116/6.00033022 DOI
040 a (SwePub)uu
041 a engb eng
042 9 SwePub
072 7a ref2 swepub-contenttype
072 7a art2 swepub-publicationtype
1001 a Lee, Wei Chuangu Univ Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland.4 aut
2451 0a Monolayer calibration of endofullerenes with x-ray absorption from implanted keV ion doses
264 1b American Institute of Physics (AIP),c 2024
338 a print2 rdacarrier
520 a X-ray absorption spectroscopy (XAS) has the highest sensitivity for chemical element detection on surfaces. With this approach, small amounts of lanthanide-containing endofullerene molecules (Ho3N@C80) have been measured by total electron yield at a low flux bending magnet beamline. The monolayer coverage is calibrated by extrapolating the signals of constant doses (3 x 1014 cm-2) of Ho ions implanted into SiO2 with energies between 2 and 115 keV. At room temperature, the Ho XAS spectra of the molecules and implanted ions indicate trivalent but not identical Ho ground states. Still, this approach demonstrates a way for calibration of small coverages of molecules containing open core-shell elements.
650 7a NATURVETENSKAPx Fysikx Den kondenserade materiens fysik0 (SwePub)103042 hsv//swe
650 7a NATURAL SCIENCESx Physical Sciencesx Condensed Matter Physics0 (SwePub)103042 hsv//eng
7001 a Yu, Lebinu Univ Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland.4 aut
7001 a Oscarsson, Johan,d 1984-u Uppsala universitet,Institutionen för fysik och astronomi4 aut0 (Swepub:uu)johos804
7001 a Ochapski, Michal W.u Ist Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy.4 aut
7001 a Sagehashi, Ryunosukeu Univ Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland.4 aut
7001 a Zhang, Yangu Leibniz Inst Solid State & Mat Res IFW, D-01069 Dresden, Germany.4 aut
7001 a Popov, Alexey A.u Leibniz Inst Solid State & Mat Res IFW, D-01069 Dresden, Germany.4 aut
7001 a Gebeyehu, Zewdu M.u Ist Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy.4 aut
7001 a Martini, Leonardou Ist Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy.4 aut
7001 a Forti, Stivenu Ist Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy.4 aut
7001 a Coletti, Camillau Ist Italiano Tecnol, Graphene Labs, IT-16163 Genoa, Italy.4 aut
7001 a Delley, Bernardu Paul Scherrer Inst PSI, Swiss Light Source, CH-5232 Villigen, Switzerland.4 aut
7001 a Muntwiler, Matthiasu Paul Scherrer Inst PSI, Swiss Light Source, CH-5232 Villigen, Switzerland.4 aut
7001 a Primetzhofer, Danielu Uppsala universitet,Institutionen för fysik och astronomi4 aut0 (Swepub:uu)danpr521
7001 a Greber, Thomasu Univ Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland.4 aut
7102 a Univ Zurich, Phys Inst, CH-8057 Zurich, Switzerland.b Institutionen för fysik och astronomi4 org
7730 t Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Filmsd : American Institute of Physics (AIP)g 42:2q 42:2x 0734-2101x 1520-8559
8564 8u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-527894
8564 8u https://doi.org/10.1116/6.0003302

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy