SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Tungasmita Sukkaneste)
 

Sökning: WFRF:(Tungasmita Sukkaneste) > Epitaxial aluminum ...

Epitaxial aluminum nitride thin films on 6H-silicon carbide, grown by magnetron sputter deposition

Tungasmita, Sukkaneste, 1972- (författare)
Linköpings universitet,Institutionen för fysik och mätteknik,Tekniska högskolan
 (creator_code:org_t)
ISBN 9172196912
Linköping : Linköpings universitet, 2000
Engelska 47 s.
Serie: Linköping Studies in Science and Technology. Thesis, 0280-7971 ; 815
  • Licentiatavhandling (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • The research presented in this thesis is focused on epitaxial wurtzite-structure Aluminum Nitride (AlN) thin film synthesis, by ultra-high-vacuum (UHV) de magnetron sputter deposition, on Silicon Carbide (6H-SiC) substrates. The emphasis of the work has been put on controlling the growth and quality of the films to be able to use this material in electronic device applications.The quality of epitaxial AlN films is significantly improved by using low­ energy ion assistance (Ei = 17-27 eV), during growth. The ion-assisted growth results in an increased surface mobility, which promotes domain boundary annihilation and epitaxial growth. This results in lateral expansion of column width (100 nm-wide at film thickness above 100 nm). The film characterization results show a very good crystal quality as well as high purity material. The measured concentrations of O, C, and Si in the film are at 3.5x1018, l. 3x1018 and 3.5xl 018 cm-3, respectively, which are among the purest AlN material as has been reported. The appearance of near band­ edge CL emission (6.02 eV at 4K) is also an evidence ofa high quality material.

Publikations- och innehållstyp

vet (ämneskategori)
lic (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...
Tungasmita, Sukk ...
Delar i serien
Linköping Studie ...
Av lärosätet
Linköpings universitet

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy