WFRF:(Seger Johan)
Sökning: WFRF:(Seger Johan) > Formation of Ni mon...
Formation of Ni mono-germanosilicide on heavily B-doped epitaxial SiGe for ultra-shallow source/drain contacts
-
- Isheden, Christian (författare)
- KTH,Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT
-
- Seger, Johan (författare)
- KTH,Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT
-
- Radamson, Henry H. (författare)
- KTH,Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2003
- 2003
- Engelska.
- Ingår i: Materials Research Society Symposium Proceedings. - 0272-9172 .- 1946-4274. ; 745, s. 117-122
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- The formation of Ni germanosilicides during solid-state interaction between Ni and heavily B-doped strained epitaxial Si1-xGex films with x=0.18, 0.32 and 0.37 is studied. No NiSi2 is found in these samples even after annealing at 850 degreesC, which can be compared to the formation of NiSi2 at 750 T on Si(I 00). Resistance and diffraction studies for the Si0.82Ge0.18 sample indicate that NiSi0.82Ge0.18 forms and the NiSi0.82Ge0.18/Si0.82Ge0.18 structure is stable from 400 to 700 degreesC. For the NiSi1-uGeu formed in all Si1-xGex samples, where u can be different from x, a strong film texturing is observed. When the Ge fraction is increased from 18 at.% to 32-37 at.%, the morphological stability of the film is degraded and a substantial increase in sheet resistance occurs already at 600 degreesC. The contact resistivity for the NiSi0.8Ge0.2/Si0.8Ge0.2 interface formed at 550 T is determined as 1.2x10(-7) Omegacm(2), which satisfies the ITRS contact resistivity requirement for the 70 nm technology node.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- Electric contacts
- Electric resistance
- Epitaxial growth
- Rapid thermal annealing
- Semiconducting films
- Semiconductor doping
- Semiconductor junctions
- X ray diffraction analysis
- Sheet resistance
- Silicidation
- Electronics
- Elektronik
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- Materials Research Society Symposium Proceedings (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Isheden, Christi ...
- Seger, Johan
- Radamson, Henry ...
- Zhang, Shi-Li
- Östling, Mikael
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Elektroteknik oc ...
- och Annan elektrotek ...
- Artiklar i publikationen
- Materials Resear ...
- Av lärosätet
- Kungliga Tekniska Högskolan
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
