WFRF:(CARLSSON JO)
Sökning: WFRF:(CARLSSON JO) > Use of oxygen-stabi...
- 25 av 39
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Use of oxygen-stabilized C-60 films for selective chemical vapor deposition
-
- McGinnis, S (författare)
- Uppsala universitet
-
- Norin, L (författare)
- Uppsala universitet
-
- Jansson, U (författare)
- Uppsala universitet
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- AMER INST PHYSICS, 1997
- Engelska 586-588 s.
- Ingår i: APPLIED PHYSICS LETTERS. - : AMER INST PHYSICS. ; 70:5
- Annan publikation (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Thin C-60 films exposed to ultraviolet/visible light in the presence of oxygen were used as a selective mask for tungsten chemical vapor deposition on silicon substrates. An uptake of oxygen in the fullerene films as well as a significant increase in the
Nyckelord
- SURFACE-CHEMISTRY; TUNGSTEN; SILICON; GROWTH
Publikations- och innehållstyp
- vet (ämneskategori)
- ovr (ämneskategori)
Till lärosätets databas
- 25 av 39
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- McGinnis, S
- Norin, L
- Jansson, U
- Carlsson, JO
- Artiklar i publikationen
- APPLIED PHYSICS ...
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
