Na0.5K0.5NbO3 thin films for MFIS_FET type non-volatile memory applications

↓ Direkt till sidans innehåll
↓ Direkt till sidans sekundära innehåll (sidomenyn)

Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-22120" > Na0.5K0.5NbO3 thin ...

1 av 1
Föregående post
Nästa post
Till träfflistan

LIBRIS Formathandbok (Information om MARC21)

Fältnamn	Indikatorer	Metadata
000		01955naa a2200373 4500
001		oai:DiVA.org:kth-22120
003		SwePub
008		100810s2002 \| \|\|\|\|\|\|\|\|\|\|\|000 \|\|eng\|
024	7	a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-221202 URI
040		a (SwePub)kth
041		a engb eng
042		9 SwePub
072	7	a ref2 swepub-contenttype
072	7	a art2 swepub-publicationtype
100	1	a Cho, C. R.4 aut
245	1 0	a Na0.5K0.5NbO3 thin films for MFIS_FET type non-volatile memory applications
264	1	c 2002
338		a print2 rdacarrier
500		a QC 20100525
520		a Na0.5K0.5NbO3(NKN) thin films have been prepared on Pt80Ir20, SiO2/Si, and Ta2O5/Si substrates for ferroelectric non-volatile memory applications. Ferroelectric hysteresis loops for Au/NKN/Pt80Ir20 vertical capacitor yielded remnant polarization of 12 muC/cm(2) and coercive field similar to20 kV/cm. Significant flat-band voltage V-FB shifts with buffer layer thickness in Au/NKN/SiO2/Si structures have been attributed to the intermixing between Na and K alkali ions and SiO2 layer. On the other hand, Au/NKN/Ta2O5/Si structure exhibited wide memory window without significant V-FB deviations, low leakage currents, and rather long retention time at zero bias.
653		a Na0.5K0.5NbO3 (NKN) thin film
653		a Au/NKN/Ta2O5/Si
653		a MFIS_diode
653		a ferroelectric non-volatile memory
653		a pulsed-laser deposition
653		a varactor
700	1	a Park, S. H.4 aut
700	1	a Moon, B. M.4 aut
700	1	a Sundqvist, J.4 aut
700	1	a Harsta, A.4 aut
700	1	a Grishin, Alexander M.u KTH,Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT4 aut0 (Swepub:kth)u179x9xt
710	2	a KTHb Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT4 org
773	0	t Integrated Ferroelectricsg 49, s. 21-30q 49<21-30x 1058-4587x 1607-8489
856	4 8	u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-22120

Hitta via bibliotek

Integrated Ferroelectrics (Sök värdpublikationen i LIBRIS)

Till lärosätets databas

1 av 1
Föregående post
Nästa post
Till träfflistan

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...: Cho, C. R.; Park, S. H.; Moon, B. M.; Sundqvist, J.; Harsta, A.; Grishin, Alexand ...

Artiklar i publikationen: Integrated Ferro ...

Av lärosätet: Kungliga Tekniska Högskolan

Sök utanför SwePub

Sök vidare i:: Google; Google Book Search; Google Scholar

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

LIBRIS.kb.se