SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Sandström Lars)
 

Sökning: WFRF:(Sandström Lars) > Domain epitaxial gr...

LIBRIS Formathandbok  (Information om MARC21)
FältnamnIndikatorerMetadata
00004141naa a2200493 4500
001oai:DiVA.org:liu-188556
003SwePub
008220916s2022 | |||||||||||000 ||eng|
0247 a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-1885562 URI
0247 a https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.1285812 DOI
040 a (SwePub)liu
041 a engb eng
042 9 SwePub
072 7a ref2 swepub-contenttype
072 7a art2 swepub-publicationtype
1001 a Chang, Jui-Cheu Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)juich98
2451 0a Domain epitaxial growth of Ta3N5 film on c-plane sapphire substrate
264 1b Elsevier,c 2022
338 a electronic2 rdacarrier
500 a Funding: Swedish Research Council [2018-04198, 2021-00357]; Swedish Energy Agency [46658-1]; Stiftelsen Olle Engkvist Byggmastare [197-0210]; Linkoping University Library; Swedish Government Strategic Research Area in Materials Science on Functional Materials at Linkoping University [SFO-Mat-LiU 2009-00971]
520 a Tritantalum pentanitride (Ta3N5) semiconductor is a promising material for photoelectrolysis of water with high efficiency. Ta3N5 is a metastable phase in the complex system of TaN binary compounds. Growing stabilized single-crystal Ta3N5 films is correspondingly challenging. Here, we demonstrate the growth of a nearly single-crystal Ta3N5 film with epitaxial domains on c-plane sapphire substrate, Al2O3(0001), by magnetron sputter epitaxy. Introduction of a small amount ~2% of O2 into the reactive sputtering gas mixed with N2 and Ar facilitates the formation of a Ta3N5 phase in the film dominated by metallic TaN. In addition, we indicate that a single-phase polycrystalline Ta3N5 film can be obtained with the assistance of a Ta2O5 seed layer. With controlling thickness of the seed layer smaller than 10 nm and annealing at 1000 °C, a crystalline β phase Ta2O5 was formed, which promotes the domain epitaxial growth of Ta3N5 films on Al2O3(0001). The mechanism behind the stabilization of the orthorhombic Ta3N5 structure resides in its stacking with the ultrathin seed layer of orthorhombic β-Ta2O5, which is energetically beneficial and reduces the lattice mismatch with the substrate.
650 7a NATURVETENSKAPx Fysikx Den kondenserade materiens fysik0 (SwePub)103042 hsv//swe
650 7a NATURAL SCIENCESx Physical Sciencesx Condensed Matter Physics0 (SwePub)103042 hsv//eng
653 a Ta3N5
653 a Sputtering
653 a MSE
653 a XRD
653 a XPS
653 a Water splitting
653 a Single crystal
7001 a Birch, Jens,d 1960-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)jenbi91
7001 a Kostov Gueorguiev, Gueorgui,d 1968-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)guegu96
7001 a Bakhit, Babak,d 1983-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)babba34
7001 a Greczynski, Grzegorz,d 1973-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)grzgr49
7001 a Eriksson, Fredrik,d 1975-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)freer90
7001 a Sandström, Per,d 1970-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)persa20
7001 a Hultman, Lars,c Professor,d 1960-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)larhu75
7001 a Hsiao, Ching-Lien,d 1975-u Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten4 aut0 (Swepub:liu)chihs76
7102 a Linköpings universitetb Tunnfilmsfysik4 org
7730 t Surface & Coatings Technologyd : Elsevierg 443q 443x 0257-8972x 1879-3347
8564 u https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128581y Fulltext
8564 u https://liu.diva-portal.org/smash/get/diva2:1696473/FULLTEXT01.pdfx primaryx Raw objecty fulltext:print
8564 8u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-188556
8564 8u https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128581

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy