WFRF:(Persson Karl Magnus)
Sökning: WFRF:(Persson Karl Magnus) > Ultra-Scaled AlOx D...
- 40 av 45
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Ultra-Scaled AlOx Diffusion Barriers for Multibit HfOx RRAM Operation
-
- Persson, Karl-Magnus (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Nanoelektronik,Forskargrupper vid Lunds universitet,Nano Electronics,Lund University Research Groups
-
- Mamidala, Saketh, Ram (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Nanoelektronik,Forskargrupper vid Lunds universitet,Nano Electronics,Lund University Research Groups
-
- Wernersson, Lars-Erik (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Nanoelektronik,Forskargrupper vid Lunds universitet,Nano Electronics,Lund University Research Groups
- (creator_code:org_t)
- 2021
- 2021
- Engelska 6 s.
- Ingår i: IEEE Journal of the Electron Devices Society. - 2168-6734. ; 9, s. 564-569
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- For dense very large scale integration (VLSI) of high performance, multibit resistive memory (RRAM), scalability of material dimensions, as well as the operational sensitivity of the RRAM to voltage fluctuations, have to be considered. This report presents the benefits of adding 0.5-nm thick AlO x diffusion barriers at the different electrode interfaces of HfO x . It is found that implementing AlO x -layers at both the bottom and the top electrode interface enables a tight control of the oxygen vacancy filament, resulting in low switching voltages and significantly improving switching endurance up to 10 6 cycles using a performance limiting resistor compliance. It is also shown that the filament in its low resistive state ( RLRS ) can be linearly reduced and enlarged at levels compatible to the conduction limitations of scaled selectors using an external 1T1R transistor compliance. With selector controlled resistance modulation, the RLRS becomes independent of the magnitude of the programming voltage and thus less sensitive to losses throughout a large memory array.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- IEEE Journal of the Electron Devices Society (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 40 av 45
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Persson, Karl-Ma ...
- Mamidala, Saketh ...
- Wernersson, Lars ...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Elektroteknik oc ...
- och Annan elektrotek ...
-
- NATURVETENSKAP
- NATURVETENSKAP
- och Fysik
- och Den kondenserade ...
- Artiklar i publikationen
- IEEE Journal of ...
- Av lärosätet
- Lunds universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
