SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

L773:0255 5476 OR L773:1662 9752 OR L773:9783038354789
 

Sökning: L773:0255 5476 OR L773:1662 9752 OR L773:9783038354789 > (2010-2014) > 3C-SiC MOSFET with ...

3C-SiC MOSFET with High Channel Mobility and CVD Gate Oxide

Kobayashi, M. (författare)
Uchida, H. (författare)
Minami, A. (författare)
visa fler...
Sakata, A. (författare)
Esteve, Romain (författare)
Schöner, A. (författare)
visa färre...
2011
2011
Engelska.
Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476 .- 1662-9752. ; 679-680, s. 645-648
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • 3C-SiC MOSFET with 200 cm2/Vs channel mobility was fabricated. High performance device processes were adopted, including room temperature implantation with resist mask, polysilicon-metal gates, aluminium interconnects with titanium and titanium nitride and a specially developed activation anneal at 1600°C in Ar to get a smooth 3C-SiC surface and hence the expected high channel mobility. CVD deposited oxide with post oxidation annealing was investigated to reduce unwanted oxide charges and hence to get a better gate oxide integrity compared to thermally grown oxides. 3C-SiC MOSFETs with 600 V blocking voltage and 10 A drain current were fabricated using the improved processes described above. The MOSFETs assembled with TO-220 PKG indicated specific on-resistances of 5 to 7 mΩcm2.

Nyckelord

3C-SiC
Capacitance-Voltage Characteristics
Channel Mobility
CVD Deposited Oxide
MOSFET
On Resistance
Post Oxidation Annealing
TZDB

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy