SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Richter K)
 

Sökning: WFRF:(Richter K) > (2000-2004) > Real-time assessmen...

Real-time assessment of overlayer removal on 4H-SiC surfaces : Techniques and relevance to contact formation

Edwards, NV (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
Madsen, LD (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
Robbie, K (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
visa fler...
Powell, GD (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
Järrendahl, Kenneth (författare)
Linköpings universitet,Tekniska högskolan
Cobet, C (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
Esser, N (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
Richter, W (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
Aspnes, DE (författare)
Linkoping Univ, Dept Phys, SE-58183 Linkoping, Sweden N Carolina State Univ, Raleigh, NC USA Tech Univ Berlin, Inst Festkorperphys, DE-13355 Berlin, Germany
visa färre...
 (creator_code:org_t)
2000
2000
Engelska.
Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476 .- 1662-9752. ; 338-3, s. 1033-1036
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • We applied real-time spectroscopic ellipsometric (SE) measurements to assess the removal of overlayer material from 4H-SiC Si- and C-face surfaces in order to investigate the final step of an otherwise standard RCA cleaning regimen commonly used to prepare SiC surfaces for contact formation. The selected treatments (buffered hydrofluoric acid (HF), concentrated HF, dilute HF and 5% HF in Methanol) removed 4 to 40 Angstrom of effective SiO2 overlayer thickness from these surfaces. We also found that the concentrated HF treatment yielded the best surface, i.e. the most abrupt bulk-to-ambient transition region.

Nyckelord

cleaning
contact
spectroscopic ellipsometry
surface preparation
synchrotron
TECHNOLOGY
TEKNIKVETENSKAP

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy